


Очищающая маска — мультифункциональное средство, способное преобразить вашу кожу за короткий промежуток времени. Обладает эксфолиирующими, вяжущими, освежающими, успокаивающими свойствами. Удаляет мертвые клетки, шлифует и смягчает текстуру кожи, устраняя функциональные нарушения кожи.
Серия: RE:PROGRAM Этап ухода: 5.2 Специальный уход Артикул: TSWME-20-15
Очищающая маска для лица WOW EFFECT предназначена для комбинированной и жирной проблемной кожи. Это поистине уникальный концентрат компонентов, полезных для этого типа кожи и необходимых для ее самостоятельной регенерации. Моментальное глубокое очищение пор достигается за счет фармацевтического каолина и кембрийской глины.
Дополняет состав мощный фитокомплекс противовоспалительных экстрактов, который успокаивает кожу и снимает локальные покраснения, а также комплекс аминокислот, которые поддерживают здоровый уровень увлажнения кожи, не допуская ее пересушивания.
Маска является экспресс-средством для выравнивания текстуры и цвета кожи. Может применяться как утром, так и вечером. Легкая некомедогенная формула.
МГНОВЕННЫЙ РЕЗУЛЬТАТ: выравнивание текстуры кожи, уменьшение жирного блеска.
РЕЗУЛЬТАТ ЧЕРЕЗ МЕСЯЦ: уменьшение проявления акне и воспалений, чистая и матовая кожа.
Каолин, голубая глина, салициловая кислота, оксид цинка, антиакне-комплекс, успокаивающий комплекс на основе экстракта пории кокосовидной и вытяжки тростника карка, экстракты еловой хвои, календулы, ромашки, конского каштана, прополиса, комплекс аминокислот, масло черного тмина.
Aqua, Blue Clay, Kaolin, Betain, Sodium PCA, Sorbitol, Serine, Glycine, Glutamic Acid, Alanine, Lysine, Arginine, Threonine, Proline, Isopentyldiol, Phragmites Kharka Extract, Poria Cocos Extract, Picea Abies Extract, PEG-60 Almond Glycerides, Caprylyl Glycol, Glycerin, Carbomer, Nordihydroguaiaretic Acid, Oleanolic Acid, Salicylic Acid, Zinc Oxide, Nigella Sativa Seed Oil, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil, Lauroyl Lysine, Benzyl Alcohol, Propolis Extract, Chamomilla Recutita Flower Extract, Calendula Officinalis Flower Extract, Aesculus Hippocastanum Extract, Menthol, Xantan Gum, EDTA.
Нанести маску толстым слоем на сухую, предварительно очищенную кожу лица и шеи. Выдержать на коже 10 минут, затем тщательно смыть прохладной водой. После процедуры нанести крем, соответствующий вашему типу кожи.
Возможно ощущение легкого пощипывания во время использования маски.
Применять 1–2 раза в неделю согласно процедуре ICON SKIN RE:PROGRAM.
Не наносить на кожу вокруг глаз.
БУДЬТЕ В КУРСЕ ВСЕХ НОВОСТЕЙ И АКЦИЙ ICON SKIN
Присоединяйся к сообществу людей, заботящихся о своем здоровье и красоте.
Этот товар входит в систему: НАБОР МИНИАТЮР № 4 «СОВЕРШЕННАЯ КОЖА 360°» ДЛЯ ЖИРНОЙ КОЖИ С АКНЕ 3–4-Й СТЕПЕНИ (7 ПРОДУКТОВ)